目錄

• 你可能想知道的事
• 主要議題
• 重點摘要表
• 後續...

你可能想知道的事

• 儘管有出口管制，個別的 EUV 光刻系統——世界上最先進的晶片製造工具——是否真的可能已被轉移到中國？
• 如果發生這類違規，對全球半導體產業與出口管制制度意味著什麼？

主要議題

近期報導指出，美國高階官員已直接向 ASML 領導層提出疑慮，稱可能有 ASML 的極紫外光（EUV）光刻系統出現在中國，此事在半導體產業引起廣泛迴響。此事核心在於相互矛盾的說法：美國商務部官員表示他們擁有證據，顯示與 EUV 系統相關的零組件或運輸設備被運往中國；而荷蘭的 ASML——全球唯一提供商用 EUV 工具的製造商——則堅決表示從未有任何 EUV 機器在中國。這場爭議觸及出口管制執行、技術壟斷、國家安全以及影響企業行為的商業誘因等核心議題。

要理解這些說法為何重要，有助於了解 ASML 的技術與經濟地位。EUV 光刻是唯一能印製出最先進半導體所需最小電路特徵的製程。實現可靠的 EUV 需經數十年的累積研究與龐大持續的投資。這些系統本身極為複雜：它們結合精密光學、真空環境，以及專門的高能光源來在領先節點上製圖晶片。 ASML 的 EUV 機器是獨一無二的 — 目前沒有第二供應商能以相同規模提供相同能力。這種獨特性使得 ASML 對於像台積電這類主要代工廠具有戰略性的重要性，台積電使用 ASML 的工具為主要的 AI 與消費電子客戶製造處理器。

過去幾年來，美國及其他西方政府已收緊對先進光刻設備的出口管制，以防敏感技術助長對手國家的軍事與工業現代化。自川普政府早期起，ASML 就被限制向中國銷售 EUV 系統，儘管較舊世代的深紫外（DUV）工具——較不具備生產最先進節點的能力——在許多情況下仍被允許。如果整套 EUV 系統或必要的核心零組件確實被轉移到中國，那將構成對該出口管制體系的嚴重違反，並對政策與產業策略產生重大影響。

ASML 的公開反駁基於幾個論點。首先，公司主張它追蹤每一台出貨的 EUV 機器——機器要麼在受監控的客戶處於使用中，要麼被拆解後返還。ASML 表示其維持內部控制以防止未經授權接觸敏感的 EUV 技術。這種內部隔離包括限制在中國的員工接觸 EUV 文件、訓練或系統。其次，ASML 的主管強調複製 EUV 能力的實際困難：這些系統建立在數十年的既有知識上，而最關鍵的技術難題——可靠地產生並利用 EUV 光——花了大約二十年才解決。從這個角度看，轉移或複製並不容易：你無法反向工程或操作從未擁有過的機器。

另外，ASML 違反出口規定的商業阻力也很明顯。ASML 透過銷售較舊的 DUV 設備及受控的服務關係，在中國保有被允許的業務。公司預估這類被允許的銷售在未來數年將佔相當比例的營收。若因非法供應 EUV 系統而遭受監管處罰並喪失出口許可，將危及這些營收來源與 ASML 經年累積的市場地位。簡言之，一次非法銷售的短期利益，可能換來極不成比例的大幅企業損失。

然而，美國政府的主張不能被忽視。政府官員表示他們有關於 EUV 相關零組件與運輸設備運往中國的運送證據。公開層面上，他們尚未提供該等證據，記者與 ASML 也表示未被展示底層資料。在證據提出並經評估之前，保留最終判斷是適當的。公開證據的缺乏並不否定該指控的嚴重性；但它確實限制了外部觀察者做出確定結論的事實基礎。

此爭議也坐落於更廣泛的戰略背景之中，多方正圍繞光刻技術進行佈局。美國機構已投資於追求下一代光源或替代光刻方法的創業公司，包括對一家開發下一代光源技術的公司提供高達 1.5 億美元的聯邦承諾。這個創投支持的生態系統，包含其他私人投資者與追求可與 EUV 競爭技術的創業公司，長期來看可能減少對單一供應商的依賴。但現行的商業現實仍然存在：大規模生產最先進處理器依賴於 ASML 現有的 EUV 系統。

當政府行動者一方面審視既有供應商，同時又用納稅人的錢支援競爭者或技術替代方案時，利益衝突或既有觀感衝突的潛在問題就會產生。觀察者指出，當同一機構對壟斷提出質疑，卻又投資於針對該壟斷核心技術的創業公司時，外在觀感值得被檢視。儘管如此，目前並無公開證據直接將該機構的資金決策與關於 EUV 機器在中國的具體指控連結起來。

最後，此爭議的政治與法律結果可能對產業政策產生實質影響。國會正在審議可能擴大對中國光刻設備出貨限制的立法，範圍不僅限於 EUV，也可能限制某些 DUV 出口。如果通過，這類措施將重塑允許的商業流向，並可能減少 ASML 在中國的可允許市場，進而對全球供應鏈、晶片製造能力與國家安全評估產生連鎖影響。目前，公司、美國商務部與立法者正處於一種不穩定的平衡：嚴重的指控、堅決的否認，以及可能產生重大影響的政策選擇，皆懸而未決。

重點摘要表

後續...

展望未來，釐清情況將取決於美國政府是否將其證據公開或以可驗證方式與 ASML 分享。若經證實，聲稱 EUV 系統在中國將可能加劇出口管制的執行，並促進旨在限制先進光刻存取的政策行動加速。若未被證實，此事件仍可能透過對企業施加政治壓力而影響國會辯論與商業行為，特別是那些位於國家安全與全球供應鍊交叉點的業者。

不論此特定指控如何解決，較大的動態是清楚的：先進光刻能力是全球半導體生產的一個戰略性瓶頸。這一事實在可預見的未來將繼續形塑企業決策、政府政策與對替代技術的投資。