芯盈彩預計1月中旬上市，等待明年2nm產品貢獻
目錄
你可能想知道
- 新盈彩的上市將如何影響其來年的財務前景？
- 芯盈材在半導體材料市場有哪些策略優勢？
主要議題
芯盈彩（4749-TW）正為明年一月中旬上市做準備，這項策略性舉措預計將受益於2奈米產品產量的提升。董事長詹文雄宣布，隨著客戶明年開始量產2nm，新英彩用於光刻週邊設備的表面改質劑（Rinse）預計將隨之成長。此外，最近推出的底部抗反射塗層 (BARC) 和邊珠去除劑 (EBR) 也開始產生影響。金融分析師預測，明年新盈彩的營收較今年可能成長20%。
詹總強調了其工廠的生產能力，表示高雄和台南工廠一期實行兩班制運營，可以生產護髮素等產品。這些工廠加起來可能達到 40 億新台幣的產值。第二期工廠正在驗證中，預計新年後試生產，2026年第一季全面量產。
新英彩的主打產品是半導體先進製程光刻表面改質劑，對於提高光刻製程良率至關重要。目前公司資本為新台幣8.22億元，2023年淨利為新台幣3.1837億元，每股盈餘為新台幣3.91元。 2024年前三季淨利總額已超過去年全年，增幅達133%。值得注意的是，半導體收入目前佔比超過 78%，並且持續成長。
鑫映彩成立於2003年，憑藉在自主研發並量產的面板和半導體光學元件光阻材料方面的專業知識，支撐了其自2018年以來的轉型。關鍵光刻專用材料，成為國內唯一半導體光刻領域提供從原料合成到配方設計和量產擴張的端到端解決方案。
展望未來，芯英彩將致力於推動奈米級光刻專用材料的開發，準備支援2nm和未來1.4nm製程要求，大幅提升先進光刻製程在終端應用中的良率。
半導體專用材料的開發與驗證是一個漫長的過程，但新英材擁有四大明顯的競爭優勢：配方開發與內部原料合成能力的垂直整合、在國內材料供應鏈中建立策略聯盟、反應策略與陡峭的學習曲線、卓越的品質控制以及獨立設計的製程技術。這些優勢使該公司在與國際材料巨頭的競爭中處於有利地位。
芯盈材計畫持續投資半導體光刻專用材料的開發，旨在為客戶提供高品質、多樣化的產品。新盈材以光阻週邊材料開發為基礎，成功打造出適用於半導體及光學元件製程的DUV光阻，成為台灣第一家國內半導體光阻供應商。
關鍵見解表
| 方面 | 描述 |
|---|---|
| 即將推出的產品 | 2nm產品預計下財年推出。 |
| 生產能力 | 預計到 2026 年，工廠設施組合將貢獻高達 90 億新台幣。 |
| 收入成長 | 預計明年營收成長20%。 |
| 競爭優勢 | 內部整合和策略聯盟提供了競爭優勢。 |
然後...
隨著新英才引領半導體材料不斷發展的格局，不斷探索先鋒技術仍然至關重要。開發較小的節點專用材料的努力可以為半導體製造的未來突破鋪平道路，確保公司在競爭激烈的市場中實現彈性成長和適應。隨著技術不斷進步，隨著技術前沿的擴展，必須關注永續性和效率，生產的材料不僅能滿足當前的市場需求，還能符合長期的產業目標。