亮點

范光科技近期在台灣和日本獲得了其矽光子光損檢測設備的發明專利，這使得公司在光學檢測領域開啟了新的商機。公司股價週五達到184台幣高點，收盤於176.5台幣，標誌著一週內15.36%的增長，創下兩個月來的新高。

情感分析

• 文章整體上保持積極基調，反映出對范光科技技術進步和市場潛力的樂觀態度。
• 在台灣和日本成功獲得專利被視為戰略優勢，增強了投資者的信心。
• 文章強調了公司的積極策略，繼續在美國、歐洲、韓國和中國申請專利。

文章正文

范光科技作為測試和分析領域的先驅者，通過在台灣和日本獲得其矽光子光損檢測技術的專利，取得了重大進展。這一發展吸引了投資者的興趣，導致范光公司股價顯著上漲。股價在一週結束時達到184台幣的高峰，最後穩定在176.5台幣，錄得重大增幅 15.36%。這次飆升歸因於公司在不斷增長的矽光子市場的戰略定位。

范光的技術涉及一種先進的檢測設備和方法，專門設計於識別半導體晶片光波導中的異常。這些異常，包括光衰減、洩漏和斷裂，是矽光子積體電路（PIC）中常見的挑戰。這項技術為這些常見問題提供了堅實的解決方案，改善了PIC的性能。

在台灣和日本獲得專利對范光來說是重要的一步，因為它計劃通過在歐洲、美國、韓國和中國申請類似專利來擴大其保護範圍。這一積極策略表明了公司鞏固其在全球光子工業立足點的承諾。通過有效診斷光波導中的異常，范光的發明有望提高光子電路性能，並促進未來光子學和光電子學的發展。

范光的管理層對他們的專利技術應用持樂觀態度，預計這些技術將提供精確的診斷，以提高電路可靠性和性能——這些都是光子學快速發展領域中的關鍵因素。該創新可能在支持這一領域未來的突破中發揮關鍵作用。

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